真空镀膜机系统

工作原理：
CJHL系列磁控管多弧真空镀膜机采用多弧离子镀膜和磁控溅射镀膜技术集成，具有平面靶或圆柱靶。它不仅具有高电离速率，离子涂布方式的沉积速率高。而且具有低温和高稳定性，特别适用于各种金属膜，多层膜，合金膜等化学品，如涂层超硬耐磨膜，防腐膜和装饰膜（金，银色，黑色，红色，蓝色，绿色等颜色），多层膜可以
可与TiN，TiC，TiCN，TiAlN，CrN，CU，AU，金刚石膜（DLC），装饰性材料（DLC）等组成的磁控溅射技术，不锈钢，铝，钛，钨等金属膜进行涂层膜，金属膜，非金属膜及其复合层和复合膜。
应用领域：
适用于手表，手机金属外壳，卫浴洁具，模具，电子产品，水晶玻璃，眼镜，餐具，刀具等五金，玻璃工艺品，陶瓷工艺品等。您可以制作超硬耐磨膜，防腐膜，装饰膜（金色，玫瑰金，棕色，棕色，青铜色，蓝色，黑色，白色，灰色等），结合磁控溅射技术可镀上多层复合膜，制成电镀不锈钢，铝，钛，钨等金属膜可制成涂层TIN，TIC，TICN，TIALN，CRN，CU，AU，金刚石膜（DLC），装饰膜金属，薄膜和非金属复合涂膜及其复合膜。
主要特征：
1.设备低温离子二次源，部分基材不加热材料，可在室温下直接进行冷镀膜，节约能源，提高生产效率。
2.工具涂层室最高温度可达600度，除涂布机涂料应用需要加热装置外，其他应用不需要设备。
3.沉积速度快，涂布速度快，可广泛用于装饰涂料，功能涂料等各种产品。因此是进行大批量生产的高档和最佳涂层的理想设备。
磁控溅射原理是基于阴极辉光放电的理论，它在工件表面附近消耗阴极表面磁场。然后，它提高了溅射的原子电离速率。它保持了磁控溅射的均匀性，也可以提高表面发光效果。
5，电弧等离子体蒸发源可靠，可在40A电流下工作，优化阴极和磁场结构。它将发生涂层和材料之间的原子扩散。它还具有离子束辅助沉积的优点。
6，真空泵系统，电控系统和完整真空镀膜系统可根据用户要求定制。